深圳集成电路律师邱戈龙、郑志祥办案经验认为在集成电路产业中,法律若想发挥有效的作用,为集成电路产业发展保驾护航,就得打击侵犯集成电路布图设计行为,而打击侵犯集成电路布图设计侵权行为的前提就得辨别何种行为是侵犯集成电路布图设计侵权行为。侵犯集成电路布图设计侵权方式有两种,我国《集成电路布图设计保护条例》第30条规定了复制侵权和商业利用侵权。那么如何判定侵犯集成电路布图设计中的复制侵权的行为呢?
在集成电路产业当中,完全复制的侵犯集成电路布图设计行为意思是不做任何改变,将已有的集成电路布图设计的复制到其他的产品中。这种侵犯集成电路布图设计侵权方式的判定比较容易,只需要搞清楚集成集成电路产品的开发时间就可以了。因为集成电路布图设计就好比是一座城市,而电子元件之问的布局和连线就好比是城市中的道路,试问天下哪有道路规划一模一样的城市?所以如果两件布图设计完全相同不存在任何差异,那么其中件布图设计一定是侵权而来的,
尽管我国《集成电路布图设计保护条例》中对于侵犯集成电路布图设计复制侵权规定了独立创造的抗辩,但在实践中,两件不存在任何差别的布图设计实属罕见。所以在一般隋况下,只需证明开发时间的先后,之前开发的为原创,之后开发的则是侵犯集成电路布图设计侵权的。
侵犯集成电路布图设计部分复制侵权的判定。完全复制侵犯集成电路布图设计侵权只需做到百分之百的拷贝就可以,成本也低,对于此种侵犯集成电路布图设计侵权行为的判定比较容易.但是,侵权人般不会采用此种方式。在实际的集成电路产业中,大多数的侵权行为属于部分侵犯集成电路布图设计侵权,即在复制的时候,对他人原刨的集成电路布图设计的核心部分进行复制,对其部分做些不必要的修改。在美国曾经发生过一起侵犯集成电路布图设计侵权的案件,原告布鲁斯公司和被告超微公司都是美国的集成电路产品生产商,原告布鲁斯公司向法院诉称,被告超微公司在生产的一种半导体芯片中抄袭了其百分之八十的布图设计,之后以低廉的价格出售盗版集成电路产品,侵害了布鲁斯公司的利益,美国地方法院和陪审团借鉴了版权法中的实质相似理论,得出结论,侵犯集成电路布图设计侵权的成立不以全部复制为要件,即当布图设讨的实质部分被复制,侵权行为则成立,经集成电路行业内专家证实,超微公司所生产的芯片中执行功能的部分为芯片起主要作用的核心部分,该部分与原告布鲁斯公司所生产的芯片相同。
我国关于侵犯集成电路布图设计复制侵权案件鲜有所闻,在司法实践中,基本上借鉴了美国“实质性相似”的判断标准,即侵权产品不需要与被侵权产品完全一致,只要侵犯集成电路布图设计侵权产品复制权被侵权产品中起主要核心作用的部分,不管复制多少,侵权行为则成立。
2.商业利用侵权的判定
我国《集成电路布图设计保护条例》规定了侵犯集成电路布图设计商业侵权的行为方式,即为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。在实践中认定商业利用侵犯集成电路布图设计侵权较之侵犯集成电路布图设计复制侵权的认定则容易的多。证据的取得也相列容易,关键是看,对于布图设计的商业利用行为有无台法的依据,如果有合法依据,则不构成侵犯集成电路布图设计侵权。比如,获得布图设计专有权人的许可、独立创作、反向工程、强制许可等等(下文有论述)。如果没有上述合法依据,则构成侵犯集成电路布图设计侵权。
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