集成电路布图设计专有权内容
深圳顶尖集成电路诉讼律师邱戈龙、郑志祥总结以往的集成电路纠纷案件经验，得出集成电路布图设计专有权内容主要包括以下两种：
一、集成电路布图设计专有权复制权
集成电路布图设计专有权复制权是指重复制作集成电路布图设计专有权或者含有该布图设计的集成电路的行为，专有权人可以自己复制也可以许可他人复制。集成电路布图设计专有权复制权是布图设计专有权人非常重要也是最基本的权利，对集成电路布图设计进行复制其实是制造出集成电路产品，进而对集成电路产品进行商业利用以营利，所以无集成电路布图设计专有权复制权则无集成电路布图设计专有权商业利用权。
以现有的集成电路生产工艺来讲，集成电路布图设计复制行为则是将布图设计制成掩膜版，然后就像洗照片那样制造集成电路的过程。所以上述集成电路布图设计专有权复制权与集成电路布图设计专有权版权法中的复制权含义不同，版权法中的复制权是指作品制成一份或多份的行为，复制后的作品与原作晶役有太大的差别，而集成电路布图设计专有权的复制其实足指根据布图设计生产出集成电路产品的行为。
二、集成电路布图设计专有权商业利用权
集成电路布图设计专有权商业利用权是指权利人将受保护的布图设训、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用的权利。应该说，上述集成电路布图设计专有权复制权是集成电路布图设计专有权商业利用权的前提，因为商业利用的集成电路产品部是对布图设计复制而来，夏制的价值就在于商业利用。商业利用行为则包括销售、承诺销售、进口或以其他营利方式。
经过了集成电路布图设计专有权商业利用，权利人才能获得利润同报，在实践中，商业利用的对象主要是包含了集成电路设计的集成电路，和包含集成电路的产品比如cpu芯片和包含了cpu芯片的电脑，TRIPS协议中将集成电路的保护范围规定为了三个层次，第一层次，布图设计;第二层次，包含布图设计的集成电路;第三层次，包含集成电路的物品。从条例中可咀看出中国把保护范围规定了第二层次。有学者认为中国作为个发展过不应该将布图设计的保护范围规定太宽，但为中国现如今已经成为世界上集成电路产业制造中心，较大的保护范围对于中国来说未必不足一件好事。
2015-12-22 10:38:05 浏览：
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